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真空箱式爐LFM1200C 91VC

2025-5-27

一、簡要介紹

該真空箱式爐系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結(jié)等工藝,也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱,PID程序控溫儀控制,溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數(shù)自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。爐體采超輕質(zhì)高鋁纖維材料,具有熱容小、溫度升降控制靈活、節(jié)能等特點,設備已根據(jù)所需冷態(tài)極限真空≤400Pa集成配備了真空泵及相關(guān)配件。

該設備為密封式加熱腔體,確保設備可在真空條件下,或者一些特殊氣氛條件下使用,相比普通箱式爐,使用環(huán)境更靈活,使用范圍更廣泛。

二、技術(shù)參數(shù)

型號

LFM1200C 91VC

額定功率

19KW

額定電壓

AC 380V

最高溫度

1200

額定溫度

1100℃

升溫速率

10℃/min

控溫精度

±1℃

控溫方式

模糊 PID 程序控溫30段程序控溫

熱電偶型

K 

加熱元件

電阻絲

設備重量

400KG

外型尺寸(長××高)

920*1000*1300mm

爐膛尺寸W*D*H

450*450*450mm

爐膛容積

91L

空氣開關(guān)

40A

冷態(tài)極限真空

≤400Pa

下一條

1200系列坩堝熔煉爐 LFM1200-60

上一條

溫控和移動平臺LFT1200C-VI

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